Cylch Deflector wedi'i Gorchuddio â TaC

Mae Cylch Amddiffynnydd wedi'i orchuddio â TaC Semixlab yn gydran rheoli halogiad a rheoleiddio llif aer manwl iawn a gynlluniwyd ar gyfer amgylcheddau proses epitacsi lled-ddargludyddion a CVD. Yn yr amgylcheddau hyn, mae unffurfiaeth wafer, sefydlogrwydd cemegol y siambr, a gwydnwch y deunydd yn pennu cynnyrch gweithgynhyrchu ac amser gweithredu'r offer yn uniongyrchol. Wedi'i osod yn strategol o amgylch ymyl y wafer neu ffin y swbstrad, mae'r cylch amddiffynnydd hwn yn gweithredu fel dyfais siapio llif nwy hanfodol yn ystod twf epitacsiaidd Si, SiC, a GaN, gan alluogi rheolaeth fanwl gywir dros ddosbarthiad rhagflaenydd adweithyddion a chydbwysedd maes thermol wyneb y wafer.

Mewn siambrau epitacsial tymheredd uchel, lle mae hydrogen, nwyon sy'n cynnwys clorin, hydrocarbonau ac amonia yn adweithio ar dymheredd sy'n agosáu at neu'n uwch na 1500 °C, mae cyfanrwydd cotio caledwedd y siambr yn dod yn ffactor hollbwysig wrth bennu ansawdd ffilm denau. Mae tantalwm carbid (TaC), gyda'i bwynt toddi uwch-uchel o tua 3880 °C a'i wrthwynebiad cemegol eithriadol, yn darparu rhwystr amddiffynnol sefydlog yn erbyn dirywiad deunydd, naddion arwyneb, neu halogiad metelaidd, gan gynnal amgylchedd dyddodiad rheoledig dros gylchoedd cynhyrchu estynedig.

Drwy ei fecanwaith dargyfeirio llif aer, mae'r Fodrwy Dargyfeiriol wedi'i Gorchuddio â TaC yn siapio ac yn sefydlogi'r haen ffiniol o nwyon adweithiol, gan leihau amrywiadau trwch ymyl, cyfyngu ar groniad ffilm amlhaen parasitig, ac amddiffyn y wafer rhag halogiad gronynnol sy'n tarddu o waliau siambr neu draul caledwedd. Mae'r sefydlogi hwn o raddiant cyflymder llif aer yn hanfodol ar gyfer lleihau diffygion epitacsial megis dadleoliadau plân sylfaenol, namau pentyrru, twll, ac anghysondeb ymyl ffilm.

Mewn modiwlau proses CVD ac ALD, gall dod i gysylltiad dro ar ôl tro â rhagflaenwyr cyrydol ac amgylcheddau wedi'u gwella gan plasma arwain at gyrydiad cydrannau siambr heb eu trin, tra bod yr wyneb wedi'i orchuddio â TaC yn gweithredu fel tarian anadweithiol yn gemegol, gan gynnal glendid y siambr, lleihau amlder cynnal a chadw, a gostwng cyfanswm cost perchnogaeth ar gyfer gweithfeydd cynhyrchu wafferi cyfaint uchel. Mae microstrwythur trwchus a mandylledd isel yr haen yn lleihau colli gronynnau ac yn atal cracio crisialau a achosir gan sioc thermol, gan alluogi cylchoedd gweithredu parhaus heb beryglu cyfanrwydd y siambr na glendid y wafferi.

Mae modrwyau gwyro wedi'u gorchuddio â TaC Semixlab yn cael eu cynhyrchu yn unol â safonau dilysu adlyniad cotio rheoledig a metroleg i sicrhau cryfder adlyniad cyson, unffurfiaeth trwch, a chydnawsedd prosesau ar draws amrywiol lwyfannau ffwrnais epitacsial a ffilm denau. Trwy gyfuno perfformiad deunydd, peirianneg llif nwy, a dyluniad sy'n canolbwyntio ar ddibynadwyedd, mae cynulliadau modrwy gwyro wedi'u gorchuddio â TaC Semixlab wedi dod yn elfen allweddol wrth gyflawni effeithlonrwydd ffatri hirdymor, cynnyrch wafer uchel, a gwydnwch gweithredol mewn gweithgynhyrchu lled-ddargludyddion y genhedlaeth nesaf. Rydym yn edrych ymlaen yn fawr at ddod yn bartner hirdymor i chi yn Tsieina.