Cwch Wafer wedi'i Gorchuddio â SiC CVD ar gyfer Ocsidiad a Thrylediad

Yn Semixlab, rydym yn gwneud cychod waffer wedi'u gorchuddio â SiC ar gyfer amgylcheddau lled-ddargludyddion heriol – lle mae cysondeb, glendid, a bywyd gwasanaeth hir yn wirioneddol bwysig.

Rydym yn dechrau gyda serameg silicon carbid purdeb uchel (serameg SiC, purdeb uwchlaw 99.9%) ac yn rhoi haen drwchus o silicon carbid CVD (CVD SiC) gyda phurdeb 6N. Fel 'na, mae ein cychod yn cadw eu sefydlogrwydd strwythurol hyd yn oed ar ôl gwresogi ac oeri dro ar ôl tro, ac maent yn helpu i leihau risgiau halogiad yn ystod cynhyrchu.

Beth yw cwch wafer wedi'i orchuddio â SiC beth bynnag?

Yn y bôn, cludwr yw cwch wafer sy'n dal sawl wafer yn ystod prosesu thermol. Mae'n cadw wafers yn y bylchau a'r gefnogaeth gywir, gan sicrhau bod gwres yn trosglwyddo'n gyfartal ar eu traws.

O'i gymharu â chludwyr wafferi graffit confensiynol, mae cychod wafferi ceramig SiC uwch yn cynnig gwell sefydlogrwydd thermol, rheolaeth purdeb, a gwrthiant ocsideiddio mewn amgylcheddau ffwrnais lled-ddargludyddion. Ond o dan amodau lled-ddargludyddion ymosodol - dros amser - gallwch ddod ar draws pethau fel ocsideiddio arwyneb, gronynnau'n cael eu colli, neu erydiad cemegol.

Dyna pam mae pobl yn aml yn defnyddio cotio SiC.

Mae'r haen silicon carbid yn ffurfio haen amddiffynnol drwchus dros wyneb y graffit. Mae'n gwella:

-Gwrthiant ocsideiddio

-Gwrthiant cyrydiad cemegol

-Caledwch wyneb

-Rheoli gronynnau

-Pa mor hir mae'r rhan yn para

Dyma pam mae cychod wafer wedi'u gorchuddio â SiC CVD yn cael eu defnyddio'n helaeth mewn ffwrneisi ocsideiddio, ffwrneisi trylediad, a systemau prosesu thermol glendid uchel eraill.

Nodweddion allweddol cychod waffer wedi'u gorchuddio â SiC Semixlab

Arwyneb purdeb uchel

Gall amhureddau niweidio cynnyrch eich wafer yn uniongyrchol. Rydym yn optimeiddio ein proses gorchuddio ar gyfer purdeb gradd lled-ddargludyddion, fel y gallwn helpu i leihau halogiad metelaidd yn ystod y cynhyrchiad.

Sefydlogrwydd thermol gwych

Yn ystod prosesu ocsideiddio a thrylediad, rhaid i gychod wafer gynnal sefydlogrwydd dimensiynol ac arwynebau hynod lân o dan gylchoedd tymheredd uchel dro ar ôl tro. Mae ein cychod wafer wedi'u peiriannu i gynnal eu dimensiynau trwy gylchoedd gwresogi ac oeri dro ar ôl tro.

Cynhyrchu gronynnau isel

Gan fod yr wyneb wedi'i ddwysáu, mae llai o graffit yn agored – sy'n golygu bod llai o ronynnau'n dod i ffwrdd, ac rydych chi'n cael amgylchedd proses glanach.

Gorchudd cotio unffurf

Mae angen trwch cotio cyson ar strwythurau a chorneli slotiau cymhleth. Mae ein proses cotio fewnol yn ein helpu i gyflawni gwell unffurfiaeth arwyneb ar draws y rhan gyfan.

Gallu peiriannu personol

Mae angen gwahanol ddimensiynau ar wahanol lwyfannau offer. Rydym yn cefnogi dyluniadau wedi'u teilwra yn seiliedig ar eich lluniadau neu ofynion proses.

Gweithgynhyrchu a rheoli ansawdd

Mae pob cwch wafer yn cael ei beiriannu cerameg manwl gywir, paratoi arwyneb, a dyddodiad cotio SiC CVD purdeb uchel.

Yn Semixlab, mae pob rhan yn mynd trwy:

-Archwiliad deunydd crai

-Peiriannu CNC manwl gywir

-Triniaeth glanhau arwynebau

-Cotio SiC CVD

-Gwirio dimensiwn

-Ymddangosiad terfynol ac archwiliad ansawdd

Rydyn ni'n gwneud hyn er mwyn i chi gael perfformiad dibynadwy cyn i'r rhan fynd i mewn i'ch offeryn.

Pam dewis Semixlab?

Rydym yn wneuthurwr arbenigol o graffit lled-ddargludyddion a chydrannau cotio. Rydym yn helpu cwsmeriaid gyda:

-Technoleg cotio fewnol

-Cynhyrchu personol hyblyg

-Cyfathrebu peirianneg cyflym

-Gwybodaeth am brosesau lled-ddargludyddion

-Gallu cyflenwi rhyngwladol sefydlog

P'un a ydych chi'n datblygu offer, yn rhedeg llinell beilot, neu'n gwneud cynhyrchu màs, gall ein tîm peirianneg gefnogi anghenion eich cymhwysiad.

Os ydych chi'n chwilio am gyflenwr cychod waffer wedi'i orchuddio â SiC dibynadwy, gall Semixlab roi atebion wedi'u teilwra i chi yn seiliedig ar eich lluniadau neu amodau proses.

Gellir addasu'r manylebau gwirioneddol yn dibynnu ar amodau eich cais.

Defnyddir ein cychod wafer wedi'u gorchuddio â SiC yn helaeth yn:

● Ffwrneisi ocsideiddio lled-ddargludyddion

● Ffwrneisi trylediad lled-ddargludyddion

● Systemau anelio thermol

● Offer trin gwres lled-ddargludyddion

● Cymwysiadau Ymchwil a Datblygu lled-ddargludyddion uwch

● Prosesau anelio

● Ymchwil i ddeunyddiau lled-ddargludyddion tymheredd uchel